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臺(tái)積電2nm將采用GAA工藝 進(jìn)入交付研發(fā)階段

2020-09-27 14:07:15 來源:超能網(wǎng)

早在4月份就有報(bào)道說臺(tái)積電已經(jīng)開始對2nm工藝展開初步研發(fā)工作,現(xiàn)在有更進(jìn)一步的消息了,根據(jù)digitimes的報(bào)道,現(xiàn)在臺(tái)積電已經(jīng)完成了2nm工藝的初步研發(fā)工作,進(jìn)入交付研發(fā)階段,并且確定2nm會(huì)轉(zhuǎn)向GAA工藝,已經(jīng)取得蘋果新單協(xié)議,同時(shí)也開始了對1nm的規(guī)劃。

臺(tái)積電的2nm工藝在新竹科研發(fā)中心研究,生產(chǎn)工廠也已經(jīng)開始整地動(dòng)工,下一步會(huì)考慮在臺(tái)中或者高雄擴(kuò)產(chǎn),臺(tái)積電的5nm工藝已經(jīng)在今年第二季度如期量產(chǎn),2020年底會(huì)有6nm,2021年會(huì)推出5nm的加強(qiáng)版N5P,4nm則在2022年量產(chǎn),3nm的目標(biāo)時(shí)間是2022年下半年,至于2nm什么時(shí)候會(huì)出來,現(xiàn)在還言之過早,推測可能在2023年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2024年大規(guī)模投產(chǎn)。請大家注意,這些只是臺(tái)積電的工藝節(jié)點(diǎn)名稱,并不代表實(shí)際晶體管大小。

而先進(jìn)封裝工藝方面,臺(tái)積電準(zhǔn)備對旗下SoIC、InFO、CoWoS等封裝工藝技術(shù)進(jìn)行大整合,歸類命名為3D Fabric,并計(jì)劃在2021年下半年在新竹廠投產(chǎn),2022年臺(tái)南廠也會(huì)跟進(jìn),這些技術(shù)準(zhǔn)備和三星的3D封裝技術(shù)X-Cube進(jìn)行直接競爭。